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當(dāng)前位置:產(chǎn)品中心

    三維云紋干涉儀

  • 產(chǎn)品規(guī)格

    設(shè)備技術(shù)參數(shù):

    (1)試件尺寸(測(cè)試范圍):φ5mm 至 φ50mm,10X變焦鏡頭記錄條紋圖像;

    (2)原始測(cè)試分辨率:417nm (U、V場(chǎng)),266nm(W場(chǎng)),借助于相移技術(shù)可提高100倍。

    (3)微型加熱爐:內(nèi)腔尺寸60mm見(jiàn)方,溫度范圍室溫-300C,升溫速度5-30°C 可調(diào),可維持在某一設(shè)定溫度點(diǎn),波動(dòng)范圍小于1°C,內(nèi)部均勻度優(yōu)于3°C。

    (4)主機(jī)箱尺寸:300mm ′300mm′275mm,設(shè)備總重量:10Kg。


該設(shè)備用于測(cè)量試件在機(jī)械或熱載荷作用下的三維變形場(chǎng)(面內(nèi)的U,V場(chǎng)和離面的W場(chǎng))。特別是在電子封裝領(lǐng)域,該設(shè)備是重要的失效分析手段。
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設(shè)備技術(shù)參數(shù):

(1)試件尺寸(測(cè)試范圍):φ5mm 至 φ50mm,10X變焦鏡頭記錄條紋圖像;

(2)原始測(cè)試分辨率:417nm (U、V場(chǎng)),266nm(W場(chǎng)),借助于相移技術(shù)可提高100倍。

(3)微型加熱爐:內(nèi)腔尺寸60mm見(jiàn)方,溫度范圍室溫-300C,升溫速度5-30°C 可調(diào),可維持在某一設(shè)定溫度點(diǎn),波動(dòng)范圍小于1°C,內(nèi)部均勻度優(yōu)于3°C。

(4)主機(jī)箱尺寸:300mm ′300mm′275mm,設(shè)備總重量:10Kg。